等离子去胶机表面处理工艺

等离子去胶机的工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500 V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱，现在简单介绍一下等离子去胶机表面处理工艺。
1、清洗                          
去除纳米级的残留物
加强打线键合前的粘着性
2、灭菌处理
去除表面残留微生物
3、表面刻蚀
PTFE表面刻蚀或者硅表面微结构
4、活化
渲染表面的亲水性或疏水性
键合和沉积前的表面预处理
5、聚合处理
沉积带官能分子团的聚合物
等离子活化表面
移植聚合物到活化后的材料表面