等离子体清洗技术分为几类

    等离子体主要是通过气体放电产生,其中包含电子、离子、自由基以及紫外线等高能量物质,具有活化材料表面的作用。下面,三和波达介绍下等离子体清洗技术分为几类。
    根据反应类型不同,等离子体清洗技术可分为两类:等离子体物理清洗,即借助活性粒子和高能射线轰击而使污染物脱离;等离子体化学清洗,即通过活性粒子与杂质分子反应而使污染物挥发脱离。
    (1)激发频率对等离子体的清洗类型具有一定影响。例如,超声等离子体(激发频率,40kHz)发生的反应多为物理反应;微波等离子体(激发频率,2.45GHz)发生的反应多为化学反应;而射频等离子体(激发频率,13.56MHz)则涉及到物理、化学双重反应类型。
    (2)工作气体种类对等离子体清洗类型也具有一定影响。例如,惰性气体Ar2、N2等被激发产生的等离子体主要用于物理清洗,借助轰击作用使材料表面清洁;而反应性气体O2、H2等被激发产生的等离子体则主要用于化学清洗,借助活泼自由基与污染物(多为碳氢化合物)发生化学反应,产生一氧化碳、二氧化碳、水等小分子,从材料表面移除。
    (3)等离子体清洗类型对清洗效果具有一定的影响。等离子体物理清洗可使材料表面的粗糙度增加,有助于提高材料表面的附着力;等离子体化学清洗可以显著增加材料表面的含氧、含氮以及其他类型的活性基团,有助于改善材料的表面浸润性。

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